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半導體集成電路過濾器丨刻蝕設備氣體過濾器


  • 供貨能力: 每月10000件以上
  • 定制方式: 來圖定制
  • 產地: 廣東深圳
  • 材質: 316/不銹鋼
  • 交期: 一周
  • 產品詳情

    半導體集成電路(IC)制造是高科技產業的核心,涉及光刻、刻蝕、沉積等多道工藝,均在高度潔凈的環境中進行。設備如光刻機和刻蝕機依賴超純氣體(如氮氣、氬氣)用于冷卻、吹掃或反應氣體供應,以確保電路圖案的精確性和可靠性。任何氣體中的微粒污染都可能導致電路短路、缺陷或良率下降,因此氣體純度至關重要。半導體集成電路設備通常集成在閥歧管箱或氣柜中,要求氣體輸送系統緊湊、高效。

    為什么使用過濾器

    在半導體集成電路制造中,氣體管路輸送的氣體即使經過初步凈化,仍可能攜帶亞微米級顆粒、水分或油霧。這些污染物會沉積在晶圓表面,引起器件故障。例如,在光刻環節,氣體中的微??赡苷趽踝贤夤猓瑢е聢D案失真;在刻蝕過程中,污染物可能干擾化學反應,造成過刻蝕或欠刻蝕。使用過濾器能有效攔截0.003μm以上的顆粒,將氣體雜質含量降至5ppb以下,保障集成電路的微型化和高集成度需求。文檔指出,過濾器是超高純氣體系統的首選,可避免供應鏈困擾和技術難題。

    過濾器介紹

    恒歌HENGKO的SF系列IGS面板專用過濾器專為半導體集成電路設備設計,兼容C型和W型密封規格,實現0.003μm級高效顆粒過濾。該過濾器采用全316L不銹鋼結構,支持高達100slpm的大流量,適用于集成氣體輸送與控制系統。其設計符合SEMI標準,便于模塊化安裝,如用于閥歧管箱或氣柜的在線過濾。SF系列在潔凈室環境內制造、測試和包裝,確保9-LRV清潔度,助力客戶提高產品競爭力。

    過濾器特點

    ●?結構材料:整體316L不銹鋼電解拋光外殼,耐高溫、耐高壓、耐腐蝕,工作溫度范圍-28°C至+482°C,工作壓力可達414bar。

    ●?過濾性能:超高顆粒攔截效率,出口氣體各雜質含量小于5ppb,通過100%完整性測試和氦氣檢漏測試。

    ●?設計優勢:小型化緊湊結構,節省空間;采用機械密封,與介質無焊接,安裝檢修便捷;優異的氣體置換和解吸特性,減少壓損。

    ●?定制服務:可提供OEM定制,按需求設計過濾精度和尺寸,如適配不同氣流速率。

    ●?技術參數顯示,其流量壓差曲線平滑,確保穩定運行。外形尺寸多樣,支持靈活集成。

    產品應用

    SF系列廣泛應用于半導體集成電路制造環節,如光刻設備的氣體吹掃系統、刻蝕設備的反應氣體供應線,以及晶圓廠的氣體分配歧管。在LED、光伏和MEMS設備中,它用于保護敏感組件,延長設備壽命。案例包括集成電路生產線的高純氮氣過濾,有效預防微粒污染,提高良率至99.99%以上。文檔指出,該過濾器是半導體行業實現超高純氣體的關鍵,助力科技未來發展。


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